Comparación de la resistencia de unión de cerámica adherida a estructura dentaria, después de utilizar diferentes modos de fotopolimerización

  1. Peralta Colombet, Carmen Virginia
Dirigida por:
  1. J.J. Hidalgo Arroquia Director
  2. José María Vega del Barrio Director

Universidad de defensa: Universidad Complutense de Madrid

Fecha de defensa: 05 de noviembre de 2004

Tribunal:
  1. Juan Antonio López Calvo Presidente
  2. Jose Luis Baños Martin Secretario
  3. María Purificación Varela Patiño Vocal
  4. E. Osorio Ruiz Vocal
  5. Alicia Celemín Viñuela Vocal
Departamento:
  1. Odontología Conservadora y Prótesis

Tipo: Tesis

Resumen

Propósito: El presente estudio pretende determinar si existen diferencias en las resistencias de unión de cerámica adherida a estructura dentaria, utilizando diferentes intensidades de polimerización y diferentes espesores de cerámica.Material y Método: Se emplearon en el estudio 128 muestras obtenidas de incisivos centrales y laterales extraídos principalmente por causa de lesión periodontal, donde la cara vestibular de los mismos se talló hasta llegar a superficie dentinaria. Se aplicó el ensayo de cizalla, utilizando una máquina de ensayos mecánicos (Hounsfiel-HTI), para determinar resistencia de unión entre discos de cerámica IPS-Empress (Ivoclar-Vivadent) de 1mm y 2mm de espesor y superficie dentinaria, el cemento adhesivo empleado fue el Variolik-II (Ivoclar-Vivadent), solo la pasta base y el color transparente. La fotopolimerización se llevó a cabo empleando una lámpara halógena de alta intensidad, Optilux 501( Demetron-Kerr) con terminal turbo+ , específicamente los modos Bleach a 30seg (1000 mW/cm2), Convencional a 40seg (950 mW/cm2) y Contínuo a 70seg (950 mW/cm2). Y una lámpara halógena convencional de baja intensidad, la Astralix 5 (Ivoclar- Vivadent), por 40seg (530 mw/cm2). El análisis estadístico se realizó a un nivel de significación de un 5% (p>0.05) aplicando una estadística descriptiva y un análisis de varianza (ANOVA) bifactorial y con interacción.Resultados: El valor de la media mas alta de resistencia de unión correspondió a la utilización del modo Bleach a un espesor de cerámica de 1mm (24.06 Mp), la media más baja se obtuvo con la lámpara halógena de baja intensidad (18.21 Mp). Sin embargo al aplicar el análisis de la varianza para ambos factores y la interacción, el valor de p indicó una diferencia estadísticamente no significativa en todos los casos.Conclusión: Sobre la base de las condiciones establecidas en la investigación, con respecto a espesor cerámico e intensidades de fotopolimerización, estas no determinaron diferencias observables en la resistencia de unión entre cerámica adherida a estructura dentinaria a través de ensayos de cizalla.