Incorporation of phosphorus into mesostructured silicas: A novel approach to reduce the SiO2 leaching in water

  1. García, A.
  2. Colilla, M.
  3. Izquierdo-Barba, I.
  4. Vallet-Regí, M.
Zeitschrift:
Chemistry of Materials

ISSN: 1520-5002,  0897-4756

Datum der Publikation: 2009

Ausgabe: 21

Nummer: 18

Seiten: 4135-4145

Art: Artikel

DOI: 10.1021/CM9012816 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus