Cross-linkable linear copolymer with double functionality: Resist for electron beam nanolithography and molecular imprinting
- Carrasco, S.
- Canalejas-Tejero, V.
- Navarro-Villoslada, F.
- Barrios, C.A.
- Moreno-Bondi, M.C.
ISSN: 2050-7534, 2050-7526
Año de publicación: 2014
Volumen: 2
Número: 8
Páginas: 1400-1403
Tipo: Artículo