Hexacene generated on passivated silicon

  1. Eisenhut, F.
  2. Krüger, J.
  3. Skidin, D.
  4. Nikipar, S.
  5. Alonso, J.M.
  6. Guitián, E.
  7. Pérez, D.
  8. Ryndyk, D.A.
  9. Peña, D.
  10. Moresco, F.
  11. Cuniberti, G.
Revista:
Nanoscale

ISSN: 2040-3372 2040-3364

Ano de publicación: 2018

Volume: 10

Número: 26

Páxinas: 12582-12587

Tipo: Artigo

DOI: 10.1039/C8NR03422B GOOGLE SCHOLAR