Retención de iodo, kriptón y xenón por carbón activado y vermiculita sin modificar e impregnados con plata

Résumé

SE HA ESTUDIADO LA RETENCION DE IODO MOLECULAR, EN FASE GASEOSA Y EN DISOLUCION CICLOHEXANICA, Y DE KRIPTON Y XENON SOBRE UN CARBON ACTIVADO Y UNA VERMICULITA NATURAL, Y SOBRE AMBOS IMPREGNADOS O INTERCAMBIADOS CON PLATA, PROCESO DE INTERES EN LA RETENCION DE EFLUENTES RADIACTIVOS. LOS ADSORBENTES SE HAN CARACTERIZADO POR ANALISIS QUIMICO, TERMOGRAVIMETRIA, RAYOS X, ESPECTROSCOPIA IR, ADSORCION DE N2 Y CO2, POROSIMETRIA DE MERCURIO Y PICNOMETRIA DE HELIO, PONIENDO DE MANIFIESTO LA DESTRUCCION DE LA ESTRUCTURA DE LA VERMICULITA EN EL TRATAMIENTO, LA ESTRUCTURA MICROPOROSA Y LA PRESENCIA DE PLATA METALICA EN EL CARBON. LA RETENCION DE IODO GAS A 100 C SIGUE UNA CINETICA DE TIPO POTENCIAL DE ORDEN 0,2. EL PROCESO DE RETENCION DE IODO EN DISOLUCION CICLOHEXANICA TRANSCURRE EN DOS ETAPAS, AJUSTANDOSE LAS ISOTERMAS A LA ECUACION DE LANGMUIR, SIENDO EL CARBON IMPREGNADO CON PLATA EL ADSORBENTE MAS ADECUADO. LA CINETICA DEL PROCESO PRESENTA UN PERIODO RAPIDO, DE PRIMER ORDEN, DURANTE LA PRIMERA HORA, SEGUIDA DE OTRO MAS LENTO PARA LAS DOS MUESTRAS DE CARBON SE HAN EVALUADO LOS COEFICIENTES DE DIFUSION INTERNA. LAS ISOTERMAS DE EQUILIBRIO DE ADSORCION DE KRIPTON Y XENON SE HAN OBTENIDO A 90 Y 195 K, RESPECTIVAMENTE OBTENIENDOSE SUPERFICIES ACCESIBLES A ESTOS GASES MUY ELEVADAS EN TODOS LOS CASOS