Microstructural modifications induced by rapid thermal annealing in plasma deposited SiOxNyHz films

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Zeitschrift:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Datum der Publikation: 2003

Ausgabe: 94

Nummer: 2

Seiten: 1019-1029

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.1586979 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus