Physical properties of plasma deposited SiOx thin films

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Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Año de publicación: 2002

Volumen: 67

Número: 3-4

Páginas: 525-529

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00243-9 GOOGLE SCHOLAR
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