Electrical decoupling effect on intermediate band Ti-implanted silicon layers
ISSN: 0022-3727, 1361-6463
Any de publicació: 2013
Volum: 46
Número: 13
Tipus: Article
ISSN: 0022-3727, 1361-6463
Any de publicació: 2013
Volum: 46
Número: 13
Tipus: Article