Electrical characterization of high-pressure reactive sputtered Sc 2O3 films on silicon

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Actas:
ECS Transactions

ISSN: 1938-5862,  1938-6737

ISBN: 9781566777919

Año de publicación: 2010

Volumen: 28

Número: 1

Páginas: 287-297

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1149/1.3375614 GOOGLE SCHOLAR
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