Physical properties of high pressure reactively sputtered hafnium oxide

  1. Toledano-Luque, M.
  2. Martínez, F.L.
  3. San Andrés, E.
  4. del Prado, A.
  5. Mártil, I.
  6. González-Díaz, G.
  7. Bohne, W.
  8. Röhrich, J.
  9. Strub, E.
Aldizkaria:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Argitalpen urtea: 2008

Alea: 82

Zenbakia: 12

Orrialdeak: 1391-1394

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/J.VACUUM.2008.03.083 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus