Optical spectroscopic study of the SiN/HfO2 interfacial formation during rf sputtering of HfO2

  1. Toledano-Luque, M.
  2. Lucía, M.L.
  3. Del Prado, A.
  4. San Andŕs, E.
  5. Mártil, I.
  6. González-Díaz, G.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Any de publicació: 2007

Volum: 91

Número: 19

Tipus: Article

DOI: 10.1063/1.2811958 GOOGLE SCHOLAR lock_openAccés obert editor
Font de les dades: Scopus