Molecular models and activation energies for bonding rearrangement in plasma-deposited (formula presented) dielectric thin films treated by rapid thermal annealing

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Revista:
Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

ISSN: 1550-235X,  1098-0121

Año de publicación: 2001

Volumen: 63

Número: 24

Tipo: Artículo

DOI: 10.1103/PHYSREVB.63.245320 GOOGLE SCHOLAR
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