Thermal stability of a-SiNx:H films deposited by plasma electron cyclotron resonance

  1. Martínez, F.L.
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  6. González-Díaz, G.
Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

ISSN: 0734-2101

Año de publicación: 1999

Volumen: 17

Número: 4

Páginas: 1280-1284

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.582110 GOOGLE SCHOLAR
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