Experimental verification of intermediate band formation on titanium-implanted silicon

  1. Castán, H.
  2. Pérez, E.
  3. García, H.
  4. Dueñas, S.
  5. Bailón, L.
  6. Olea, J.
  7. Pastor, D.
  8. García-Hemme, E.
  9. Irigoyen, M.
  10. González-Díaz, G.
Zeitschrift:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Datum der Publikation: 2013

Ausgabe: 113

Nummer: 2

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.4774241 GOOGLE SCHOLAR