Titanium doped silicon layers with very high concentration

  1. Olea, J.
  2. Toledano-Luque, M.
  3. Pastor, D.
  4. González-Díaz, G.
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Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 2008

Volumen: 104

Número: 1

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.2949258 GOOGLE SCHOLAR
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