On the influence of substrate cleaning method and rapid thermal annealing conditions on the electrical characteristics of Al/SiNx/SiO 2/Si fabricated by ECR-CVD

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Revista:
Microelectronics Reliability

ISSN: 0026-2714

Año de publicación: 2005

Volumen: 45

Número: 5-6

Páginas: 978-981

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.MICROREL.2004.11.012 GOOGLE SCHOLAR
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