Effects of residual gases and rf power on ITO rf sputtered thin films

  1. Clement, M.
  2. Santamaria, J.
  3. Iborra, E.
  4. González-Diaz, G.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Año de publicación: 1987

Volumen: 37

Número: 5-6

Páginas: 447-449

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/0042-207X(87)90333-2 GOOGLE SCHOLAR

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