Optimization of in situ plasma oxidation of metallic gadolinium thin films deposited by high pressure sputtering on silicon

  1. Pampillón, M.A.
  2. Feijoo, P.C.
  3. San Andrés, E.
  4. Lucía, M.L.
Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics

ISSN: 2166-2754,  2166-2746

Año de publicación: 2013

Volumen: 31

Número: 1

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.4769893 GOOGLE SCHOLAR
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