Optical properties and structure of HfO2 thin films grown by high pressure reactive sputtering

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Zeitschrift:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 0022-3727 1361-6463

Datum der Publikation: 2007

Ausgabe: 40

Nummer: 17

Seiten: 5256-5265

Art: Artikel

DOI: 10.1088/0022-3727/40/17/037 GOOGLE SCHOLAR