High-k gadolinium scandate on Si obtained by high pressure sputtering from metal targets and in-situ plasma oxidation

  1. Pampillón, M.A.
  2. San Andrés, E.
  3. Feijoo, P.C.
  4. Fierro, J.L.G.
Revista:
Semiconductor Science and Technology

ISSN: 1361-6641,  0268-1242

Año de publicación: 2017

Volumen: 32

Número: 3

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/1361-6641/AA58CC GOOGLE SCHOLAR

Datos de investigación

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