Estudio de procesos de ionización sobre clorofluorometanos por impacto electrónico y por ablación láser en cobre y aluminio
- SIERRA IZQUIERDO, BORJA
- Fernando Castaño Almendral Director
- Roberto Martínez Pérez de Mendiola Co-director
Defence university: Universidad del País Vasco - Euskal Herriko Unibertsitatea
Fecha de defensa: 17 November 2006
- A. González Ureña Chair
- Carlos Aragón Garbizu Secretary
- Margarita Martín Muñoz Committee member
- José Javier Laserna Vázquez Committee member
- Montserrat Ortiz Ramis Committee member
Type: Thesis
Abstract
La Memoria consta de dos partes: En primer lugar, se ha realizado el estudio de la familia de los clorofluorometanos (CCl4, CCl3, CCl2F2 y CClF3) por impacto electrónico en un sistema EI-MS-TOF para obtener secciones eficaces parciales y totales de ionización, umbrales de aparición iónica, distribución de energía cinética. Se han propuesto con los datos recogidos los posibles caminos de ionización disociativa de esos mismos iones. Además, se han comprobado la validez de los cálculos teóricos más utilizados para obtener secciones eficaces totales de ionización para moléculas con presencia de átomos pesados en su interior, como es el caso de Cl. En segundo lugar, se ha diseñado, montado y optimizado un sistema de ablación de metales a distintas fluencias donde se pueden estudiar como primeros resutlados la distribución de energía presentada por distintos iones en función de la carga según pasan pro un analizador electrostático de energías. Como detector utiliza una serie de placas multicanales en un sistema de TOF-MS. El objetivo de este sistema es poder realizar estudios de la ablación láser y poder estudiar los mecanismos que se producen en el proceso. Además, se han realizado ajustes a ecuaciones teóricas que ayuden a comprender los mecanismos existentes.