Recubrimientos depositados por cvd-fbr para protección a alta temperatura
- José Luddey Marulanda Arévalo 1
- Saúl Isaac Castañeda Quintana 2
- Aduljay Remolina Millán 3
-
1
Universidad Tecnológica de Pereira
info
-
2
Universidad Complutense de Madrid
info
- 3 Universidad Pontificia Bolivariana-Seccional Bucaramanga
ISSN: 0012-7353
Ano de publicación: 2013
Volume: 80
Número: 181
Páxinas: 181-191
Tipo: Artigo
Outras publicacións en: DYNA: revista de la Facultad de Minas. Universidad Nacional de Colombia. Sede Medellín
Resumo
La deposición química de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la técnica de deposición química de vapor; que combina las ventajas de la activación térmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la necesidad de proteger superficialmente los componentes que operan a altas temperaturas, el cual ha aumentado perceptiblemente. Además, tiene la ventaja de ser una técnica de bajo costo, puede controlar con relativa facilidad la composición del material depositado, permitiendo realizar recubrimientos con una orientación preferente que permite la obtención de intercaras con propiedades anisotrópicas; estos son depositados a bajas temperaturas y a la presión atmosférica