High temperature Ai/Si diffusion coatings deposited by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors (CVD-FBR)

  1. Pérez, F.J.
  2. Trilleros, J.A.
  3. Hierro, M.P.
  4. Milewska, A.
  5. Carpintero, M.C.
  6. Bolívar, F.J.
Liburu bilduma:
Materials Science Forum

ISSN: 1662-9752,  0255-5476

Argitalpen urtea: 2004

Alea: 461-464

Zenbakia: I

Orrialdeak: 313-320

Mota: Biltzar ekarpena

GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus