Estructura electrónica de siliciuros de hierro crecidos sobre Si(100) y Si(111)

  1. Álvarez Alonso, Jesús
Dirigida por:
  1. Rodolfo Miranda Soriano Director/a

Universidad de defensa: Universidad Autónoma de Madrid

Año de defensa: 1993

Tribunal:
  1. Juan Manuel Rojo Alaminos Presidente
  2. José María Sanz Secretario/a
  3. Fernando Agulló López Vocal
  4. Félix Yndurain Vocal
  5. Federico Soria Gallego Vocal

Tipo: Tesis

Teseo: 40398 DIALNET

Resumen

EN LOS ULTIMOS AÑOS EL INTERES POR LOS SILICIUROS DE LOS METALES DE TRANSICION HA CRECIDO CONSIDERABLEMENTE DEBIDO A SU UTILIDAD EN LA FABRICACION DE CIRCUITOS INTEGRADOS. LA MAYORIA DE LOS SILICIUROS DE LOS METALES DE TRANSICION SON METALICOS, POR LO QUE SUELEN SER UTILIZADOS COMO CONTACTOS OHMICOS, ELECTRODOS DE PUERTA O BARRERAS SCHOTTKY. APARTE DE ESTOS SILICIUROS METALICOS, EXISTEN OTROS SILICIUROS QUE SON SEMICONDUCTORES. ENTRE ESTOS, CABE DESTACAR EL B-FESI2. ESTE COMPUESTO HA MERECIDO ULTIMAMENTE GRAN ATENCION DEBIDO A QUE POSEE UN GAP DIRECTO DE 0.85 EV, CON UN CONSIDERABLE INTERES PARA EL DESARROLLO DE DETECTORES Y EMISORES DE LUZ EN EL INFRARROJO. EN ESTE TRABAJO DE INVESTIGACION SE HA ESTUDIADO LA FORMACION DE SILICIUROS DE HIERRO SOBRE SI(100) Y SI(111). SE HA ENCONTRADO LOS RANGOS DE ESTABILIDAD DE LOS DIVERSOS SILICIUROS DE HIERRO ESTABLES EN VOLUMEN. EL CRECIMIENTO DE LAS PELICULAS DE SILICIUROS SE HA EFECTUADO POR MEDIO DE EPITAXIA DE FASE SOLIDA Y EPITAXIA DE DEPOSICION REACTIVA. SE HA ENCONTRADO LA FORMACION DE FASES METAESTABLES DE SILICIUROS DE HIERRO SOBRE SI(111). SE HA OBSERVADO TAMBIEN UNA TRANSICION DE FASE ESTRUCTURAL DEL TIPO JAHN-TELLER ENTRE FASES METAESTABLES Y FASES DE VOLUMEN.