Anisotropy induced by the bowed-substrate sputtering technique in positive/negative magnetostriction FeB/CoSiB bilayers

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Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 1999

Volumen: 85

Número: 8 II A

Páginas: 4809-4811

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.370489 GOOGLE SCHOLAR
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