Estudio de aleaciones silicio-carbono depositadas mediante técnicas asistidas por plasma de resonancia ciclotron de electrones

Zusammenfassung

Se han depositado capas de aleaciones silicio-carbono y silicio-carbono-nitrógeno sobre silicio, por deposición química en fase vapor, asistida por plasma de resonancia ciclotrón de electrones (ecr-cvd), a baja temperatura de sustrato. Se han conseguido una completa deshidrogenacion de las capas de a-sic: H empleando tratamientos térmicos rápidos a alta temperatura en vacío. Se han optimizado las condiciones de deposición consiguiéndose un crecimiento de capas de sic microcristalino con temperaturas de sustrato inferiores a 500 grados c. Se han conseguido capas de sicxny uniformemente depositadas y que no presentan problemas elásticos de relajación o compresión. Se ha obtenido una relación entre las propiedades ópticas de las capas depositadas con los parámetros de deposición y más concretamente se ha encontrado que son controlables con la variación de la razón entre los gases precursores.