Microstructure and mechanical properties of physical vapor deposited Cu/W nanoscale multilayers: Influence of layer thickness and temperature

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Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2014

Volumen: 571

Número: P2

Páginas: 275-282

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.TSF.2014.05.044 GOOGLE SCHOLAR
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