La radiación en los dispositivos de semiconductoresgeneración y atrapamiento de portadores

  1. BRU ESPINO, ANTONIO
Dirigida por:
  1. Miguel Angel Rodríguez Díaz Director/a

Universidad de defensa: Universidad Complutense de Madrid

Año de defensa: 1995

Tribunal:
  1. Carlos Sánchez del Río Presidente/a
  2. Fernando Arqueros Martínez Secretario
  3. Luis Pesquera González Vocal
  4. Germán González Díaz Vocal
  5. Francesc Sagués Mestre Vocal

Tipo: Tesis

Teseo: 47604 DIALNET

Resumen

EN ESTE TRABAJO SE ESTUDIAN LOS EFECTOS QUE PRODUCE UNA RADIACION IONIZANTE AL INCIDIR SOBRE UN DISPOSITIVO MOS (METAL-OXIDO- SEMICONDUCTOR). DICHO ESTUDIO SE SEPARA EN DOS PARTES: LA GENERACION Y RECOMBINACION INICIAL DE LOS PARES ELECTRON -HUECO Y EL PROCESO DE TRANSPORTE Y ATRAPAMIENTO DE LOS HUECOS QUE ESCAPAN A LA RECOMBINACION INICIAL. EL TRANSPORTE DE LOS ELECTRONES NO SE ESTUDIA DEBIDO A QUE SON "BARRIDOS" INMEDIATAMENTE POR LA ACCION DEL CAMPO ELECTRICO EXISTENTE EN EL DISPOSITIVO. EN LA PRIMERA PARTE SE ESTUDIA LA INFLUENCIA DE LA TEMPERATURA, CAMPO ELECTRICO EXTERNO APLICADO Y CAMPO ELECTRICO CREADO POR LAS DISTRIBUCIONES DE PORTADORES. SE ESTUDIAN TAMBIEN EFECTOS DE SEGREGACION DE PORTADORES. PARA ESTUDIAR EL TRANSPORTE ESTOCASTICO DE LOS HUECOS DESDE SUS LUGARES DE GENERACION HASTA LA INTERFASE SI-SIO2. SE PRESENTA EL DESARROLLO DE UN TRATAMIENTO ANALITICO, CUYOS RESULTADOS SE COMPARAN CON SIMULACIONES DE MONTECARLO. SE CONSIDERA EL ATRAPAMIENTO DE LOS HUECOS POR TRAMPAS.