Resistencia de contacto y estructura superficial de materiales dopados con n
- AVILA SANCHEZ, JOSE
- José Luis Sacedón Adelantado Director/a
Universitat de defensa: Universidad Complutense de Madrid
Any de defensa: 1994
- Francisco Sánchez Quesada President
- Maria Eloisa Lopez Perez Secretària
- Mercedes Fernández Rodríguez Vocal
- José Luis Vicent López Vocal
- Tomás Rodríguez Bachiller Vocal
Tipus: Tesi
Resum
* LA RESISTENCIA DE CONTACTO DISMINUYE EXPONENCIALMENTE CON LA CONCENTRACION DE N EN EL AL DOPADO CON N. * VOLUMEN: EXISTE UNA ESTRUCTURA DE CLUSTER DE ALN JUNTO CON N DILUIDO EN EL AL DOPADO HASTA UN 6% DE N. * OXIDO NATIVO: LOS CLUSTER SE MANTIENE ASI COMO EL ENLACE QUIMICO DEL N. * OXIDO ANODICO: LOS CLUSTER SE DESTRUYEN, EXISTIENDO UNA GRAN CANTIDAD DE ENLACES DE AL NO SATURADOS. * DEFECTOS ESTRUCTURALES EN EL ACOPLO ENTRE LAS REDES DE ALN Y AL2O3 PUEDEN CAUSAR LA DISMINUCION DE LA RESISTENCIA DE CONTACTO AL/SI3N4. * EXISTE UNA REDUCCION TOTAL DEL SI3N4 A T=400C, FORMANDOSE ALN. * UN TRATAMIENTO TERMICO A 400C PRODUCE LA REDUCCION TOTAL DE 24 ANGSTROM DE SI3N4.