Resistencia de contacto y estructura superficial de materiales dopados con n
- AVILA SANCHEZ, JOSE
- José Luis Sacedón Adelantado Director
Defence university: Universidad Complutense de Madrid
Year of defence: 1994
- Francisco Sánchez Quesada Chair
- Maria Eloisa Lopez Perez Secretary
- Mercedes Fernández Rodríguez Committee member
- José Luis Vicent López Committee member
- Tomás Rodríguez Bachiller Committee member
Type: Thesis
Abstract
* LA RESISTENCIA DE CONTACTO DISMINUYE EXPONENCIALMENTE CON LA CONCENTRACION DE N EN EL AL DOPADO CON N. * VOLUMEN: EXISTE UNA ESTRUCTURA DE CLUSTER DE ALN JUNTO CON N DILUIDO EN EL AL DOPADO HASTA UN 6% DE N. * OXIDO NATIVO: LOS CLUSTER SE MANTIENE ASI COMO EL ENLACE QUIMICO DEL N. * OXIDO ANODICO: LOS CLUSTER SE DESTRUYEN, EXISTIENDO UNA GRAN CANTIDAD DE ENLACES DE AL NO SATURADOS. * DEFECTOS ESTRUCTURALES EN EL ACOPLO ENTRE LAS REDES DE ALN Y AL2O3 PUEDEN CAUSAR LA DISMINUCION DE LA RESISTENCIA DE CONTACTO AL/SI3N4. * EXISTE UNA REDUCCION TOTAL DEL SI3N4 A T=400C, FORMANDOSE ALN. * UN TRATAMIENTO TERMICO A 400C PRODUCE LA REDUCCION TOTAL DE 24 ANGSTROM DE SI3N4.