Resistividad de películas delgadas de CdS producidas por pulverización R. F, dependencia con las condiciones de producción

  1. Martil de la Plaza, I.
  2. González Díaz, G.
  3. Sanchez Quesada, F.
  4. Rodríguez Vidal, M.
Book:
III Reunión Grupo Especializado de Electricidad y Magnetismo de la RSEF: comunicaciones, noviembre 1981

Publisher: Grupo Especializado de Electricidad y magnetismo de la RSEF

Year of publication: 1981

Volume Title: Electrónica

Volume: 2

Pages: 1-8

Congress: Grupo Especializado de Electricidad y Magnetismo de la RSEF. Reunión (3. 1981. Vigo)

Type: Conference paper

Abstract

Se analiza la dependencia de la resistividad y de las propiedades estructurales de láminas delgadas de CdS producidas por pulverización de R. F. Las variables modificadas fueron: temperatura del sustrato, densidad de potencia y presión de Ar. Las películas fueron policristalinas. Con tamaño de grano dependiente de la temperatura y cuyo valor medio fue 1000 A. La resistividad varió entre 10 elevado a 2 y 10 elevado a 8 Ω. cm, mostrando una clara dependencia con la temperatura del sustrato y la presión de trabajo.