Resistividad de películas delgadas de CdS producidas por pulverización R. F, dependencia con las condiciones de producción
- Martil de la Plaza, I.
- González Díaz, G.
- Sanchez Quesada, F.
- Rodríguez Vidal, M.
Editorial: Grupo Especializado de Electricidad y magnetismo de la RSEF
Año de publicación: 1981
Título del volumen: Electrónica
Volumen: 2
Páginas: 1-8
Congreso: Grupo Especializado de Electricidad y Magnetismo de la RSEF. Reunión (3. 1981. Vigo)
Tipo: Aportación congreso
Resumen
Se analiza la dependencia de la resistividad y de las propiedades estructurales de láminas delgadas de CdS producidas por pulverización de R. F. Las variables modificadas fueron: temperatura del sustrato, densidad de potencia y presión de Ar. Las películas fueron policristalinas. Con tamaño de grano dependiente de la temperatura y cuyo valor medio fue 1000 A. La resistividad varió entre 10 elevado a 2 y 10 elevado a 8 Ω. cm, mostrando una clara dependencia con la temperatura del sustrato y la presión de trabajo.