Incorporation of phosphorus into mesostructured silicas: A novel approach to reduce the SiO2 leaching in water

  1. García, A.
  2. Colilla, M.
  3. Izquierdo-Barba, I.
  4. Vallet-Regí, M.
Revista:
Chemistry of Materials

ISSN: 1520-5002,  0897-4756

Año de publicación: 2009

Volumen: 21

Número: 18

Páginas: 4135-4145

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/CM9012816 GOOGLE SCHOLAR
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