Hexacene generated on passivated silicon

  1. Eisenhut, F.
  2. Krüger, J.
  3. Skidin, D.
  4. Nikipar, S.
  5. Alonso, J.M.
  6. Guitián, E.
  7. Pérez, D.
  8. Ryndyk, D.A.
  9. Peña, D.
  10. Moresco, F.
  11. Cuniberti, G.
Revista:
Nanoscale

ISSN: 2040-3372 2040-3364

Año de publicación: 2018

Volumen: 10

Número: 26

Páginas: 12582-12587

Tipo: Artículo

DOI: 10.1039/C8NR03422B GOOGLE SCHOLAR