Oxygen to silicon ratio determination of SiOxHy thin films

  1. Andrés, E.S.
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  3. Mártil, I.
  4. González-Díaz, G.
  5. Bohne, W.
  6. Röhrich, J.
  7. Selle, B.
  8. Sieber, I.
  9. Fernández, M.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 2005

Ausgabe: 492

Nummer: 1-2

Seiten: 232-235

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.TSF.2005.06.049 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor
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