Microstructural modifications induced by rapid thermal annealing in plasma deposited SiOxNyHz films

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Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 2003

Volumen: 94

Número: 2

Páginas: 1019-1029

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.1586979 GOOGLE SCHOLAR
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