Full composition range silicon oxynitride films deposited by ECR-PECVD at room temperature

  1. Del Prado, A.
  2. Mártil, I.
  3. Fernández, M.
  4. González-Díaz, G.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 1999

Volumen: 343-344

Número: 1-2

Páginas: 437-440

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0040-6090(98)01701-5 GOOGLE SCHOLAR
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