Effect of substrate temperature in SiOxNy films deposited by electron cyclotron resonance

  1. Del Prado, A.
  2. Martínez, F.L.
  3. Mártil, I.
  4. González-Díaz, G.
  5. Fernández, M.
Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

ISSN: 0734-2101

Año de publicación: 1999

Volumen: 17

Número: 4

Páginas: 1263-1268

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.582039 GOOGLE SCHOLAR
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