Epitaxial n++-InGaAs ultra-shallow junctions for highly scaled n-MOS devices

  1. Tejedor, P.
  2. Drescher, M.
  3. Vázquez, L.
  4. Wilde, L.
Zeitschrift:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Datum der Publikation: 2019

Ausgabe: 496

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2019.143721 GOOGLE SCHOLAR