Electrical decoupling effect on intermediate band Ti-implanted silicon layers

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Revista:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 0022-3727,  1361-6463

Año de publicación: 2013

Volumen: 46

Número: 13

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/0022-3727/46/13/135108 GOOGLE SCHOLAR
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