Anomalous thermal oxidation of gadolinium thin films deposited on silicon by high pressure sputtering

  1. Pampillón, M.A.
  2. Feijoo, P.C.
  3. San Andrés, E.
  4. Lucía, M.L.
  5. Del Prado, A.
  6. Toledano-Luque, M.
Revista:
Microelectronic Engineering

ISSN: 0167-9317

Ano de publicación: 2011

Volume: 88

Número: 9

Páxinas: 2991-2996

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.MEE.2011.04.058 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus