Interfacial properties of HfO2/SiN/Si gate structures

  1. Toledano-Luque, M.
  2. Del Prado, A.
  3. Feijoo, P.C.
  4. Amezaga, A.
  5. Andrés, E.S.
  6. Lucía, M.L.
Actas:
Proceedings of the 2009 Spanish Conference on Electron Devices, CDE'09

ISBN: 9781424428397

Año de publicación: 2009

Páginas: 23-26

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/SCED.2009.4800420 GOOGLE SCHOLAR
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