Optical spectroscopic study of the SiN/HfO2 interfacial formation during rf sputtering of HfO2

  1. Toledano-Luque, M.
  2. Lucía, M.L.
  3. Del Prado, A.
  4. San Andŕs, E.
  5. Mártil, I.
  6. González-Díaz, G.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Año de publicación: 2007

Volumen: 91

Número: 19

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.2811958 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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