Physical properties of high pressure reactively sputtered TiO2

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Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

ISSN: 0734-2101

Año de publicación: 2005

Volumen: 23

Número: 6

Páginas: 1523-1530

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.2056554 GOOGLE SCHOLAR
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