Annealing effects on the interface and insulator properties of plasma-deposited Al/SiOxNyHz/Si devices
- Del Prado, A.
- San Andrés, E.
- Mártil, I.
- González-Díaz, G.
- Kliefoth, K.
- Füssel, W.
ISSN: 0268-1242
Datum der Publikation: 2004
Ausgabe: 19
Nummer: 2
Seiten: 133-141
Art: Artikel