Conductance Transient Comparative Analysis of Electron-Cyclotron Resonance Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposited SiNx, SiC 2/SiNx and SiOxNy Dielectric Films on Silicon Substrates

  1. Castán, H.
  2. Dueñas, S.
  3. Barbolla, J.
  4. Del Prado, Á.
  5. San Andrés, E.
  6. Mártil, I.
  7. González-Díaz, G.
Revista:
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

ISSN: 0021-4922

Año de publicación: 2004

Volumen: 43

Número: 1

Páginas: 66-70

Tipo: Artículo

DOI: 10.1143/JJAP.43.66 GOOGLE SCHOLAR
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