Characterization of nitrogen-rich silicon nitride films grown by the electron cyclotron resonance plasma technique

  1. Wang, L.
  2. Reehal, H.S.
  3. Martínez, F.L.
  4. San Andrés, E.
  5. Del Prado, A.
Zeitschrift:
Semiconductor Science and Technology

ISSN: 0268-1242

Datum der Publikation: 2003

Ausgabe: 18

Nummer: 7

Seiten: 633-641

Art: Artikel

DOI: 10.1088/0268-1242/18/7/306 GOOGLE SCHOLAR
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