Multiparticle biased diffusion-limited aggregation with surface diffusion: A comprehensive model of electrodeposition

  1. Castro, M.
  2. Cuerno, R.
  3. Sánchez, A.
  4. Domínguez-Adame, F.
Revista:
Physical Review E - Statistical Physics, Plasmas, Fluids, and Related Interdisciplinary Topics

ISSN: 1063-651X

Año de publicación: 2000

Volumen: 62

Número: 1 A

Páginas: 161-173

Tipo: Artículo

DOI: 10.1103/PHYSREVE.62.161 GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: Scopus