Two-layer Hall effect model for intermediate band Ti-implanted silicon
- Olea, J.
- González-Díaz, G.
- Pastor, D.
- Mártil, I.
- Martí, A.
- Antolín, E.
- Luque, A.
Revista:
Journal of Applied Physics
ISSN: 0021-8979
Año de publicación: 2011
Volumen: 109
Número: 6
Tipo: Artículo