Optical properties and structure of HfO2 thin films grown by high pressure reactive sputtering

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Revista:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 0022-3727,  1361-6463

Año de publicación: 2007

Volumen: 40

Número: 17

Páginas: 5256-5265

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/0022-3727/40/17/037 GOOGLE SCHOLAR
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